掩模曝光用紫外曝光装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202023144357.7

申请日：

2020-12-22

公开(公告)号：

CN213750656U

公开(公告)日：

2021-07-20

发明(设计)人：

胡斌莫大洪原保平于天来王培新

申请人：

申请人地址：

610100 四川省成都市龙泉驿区经济技术开发区成龙大道三段359号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124

代理人：

敬川

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-20	授权	授权

共 50 条

[1]

投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法 [P].

饭塚和央 ;

磯端纯二 ;

田中信义 .

中国专利 :CN100343759C ,2004-08-11

[2]

曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法 [P].

榎本芳幸 ;

川岛洋德 .

中国专利 :CN111133386A ,2020-05-08

[3]

曝光用照明装置、曝光装置和曝光方法 [P].

川岛洋德 .

中国专利 :CN107615170B ,2018-01-19

[4]

曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置 [P].

麻籍文 ;

吉本芳幸 .

中国专利 :CN113711127A ,2021-11-26

[5]

曝光用的光源装置、曝光装置及曝光方法 [P].

松坂昌明 ;

榎本芳幸 ;

高濑和博 ;

矢部俊一 ;

松下智恒 .

中国专利 :CN113544589A ,2021-10-22

[6]

曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13

[7]

紫外曝光机的曝光装置以及紫外曝光机 [P].

邢大为 .

中国专利 :CN216901328U ,2022-07-05

[8]

曝光方法、曝光装置以及光掩模 [P].

畠中公荣 .

中国专利 :CN103513516B ,2014-01-15

[9]

曝光用光源以及使用该曝光用光源的曝光装置 [P].

白井哲也 ;

清木芳彦 ;

中川敦二 .

中国专利 :CN101236358A ,2008-08-06

[10]

无掩模曝光装置 [P].

千田丽誉 .

中国专利 :CN202306138U ,2012-07-04

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