曝光方法、曝光装置以及光掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310236592.2

申请日：

2013-06-14

公开(公告)号：

CN103513516B

公开(公告)日：

2014-01-15

发明(设计)人：

畠中公荣

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县横滨市

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F144

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

郝新慧;张浴月

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-01-15	公开	公开
2014-02-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101571930047 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013102365922 申请日:20130614
2020-06-02	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20130614 授权公告日:20160810 终止日期:20190614
2016-08-10	授权	授权

共 50 条

[1]

光掩模、光掩模组、曝光装置以及曝光方法 [P].

高野祥司 ;

松田文彦 ;

成泽嘉彦 .

中国专利 :CN103676495A ,2014-03-26

[2]

投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版 [P].

中泽朗 .

中国专利 :CN106483773A ,2017-03-08

[3]

曝光装置和光掩模 [P].

畑中诚 .

中国专利 :CN102597880A ,2012-07-18

[4]

光掩模及曝光装置 [P].

野村义昭 ;

竹下琢郎 ;

桥本和重 .

中国专利 :CN102902155B ,2013-01-30

[5]

曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13

[6]

掩模曝光用紫外曝光装置 [P].

胡斌 ;

莫大洪 ;

原保平 ;

于天来 ;

王培新 .

中国专利 :CN213750656U ,2021-07-20

[7]

曝光方法以及曝光装置 [P].

滨崎正和 .

中国专利 :CN111522204A ,2020-08-11

[8]

曝光方法以及曝光装置 [P].

侯广杰 ;

叶小龙 ;

王栋 ;

谢超 .

中国专利 :CN113703280A ,2021-11-26

[9]

曝光方法以及曝光装置 [P].

中井一博 .

日本专利 :CN119452311A ,2025-02-14

[10]

使用曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1979344B ,2007-06-13

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