曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410103651.X

申请日：

2004-12-30

公开(公告)号：

CN1637594A

公开(公告)日：

2005-07-13

发明(设计)人：

李树雄白尚润

申请人：

申请人地址：

韩国汉城

IPC主分类号：

G03F100

IPC分类号：

G03F720 G02F1133

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

李辉

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20041230 授权公告日:20111207 终止日期:20211230
2005-07-13	公开	公开
2011-12-07	授权	授权
2005-09-07	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

使用曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1979344B ,2007-06-13

[2]

曝光掩模 [P].

黄儁 .

中国专利 :CN1116731A ,1996-02-14

[3]

光掩模、光掩模组、曝光装置以及曝光方法 [P].

高野祥司 ;

松田文彦 ;

成泽嘉彦 .

中国专利 :CN103676495A ,2014-03-26

[4]

掩模曝光用紫外曝光装置 [P].

胡斌 ;

莫大洪 ;

原保平 ;

于天来 ;

王培新 .

中国专利 :CN213750656U ,2021-07-20

[5]

曝光方法、曝光装置以及光掩模 [P].

畠中公荣 .

中国专利 :CN103513516B ,2014-01-15

[6]

曝光装置检查用掩模、曝光装置检查方法和曝光装置 [P].

福原和也 .

中国专利 :CN1605934A ,2005-04-13

[7]

曝光装置和光掩模 [P].

畑中诚 .

中国专利 :CN102597880A ,2012-07-18

[8]

曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法 [P].

许财源 ;

李泓燃 ;

全栢均 .

中国专利 :CN104849965A ,2015-08-19

[9]

投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法 [P].

饭塚和央 ;

磯端纯二 ;

田中信义 .

中国专利 :CN100343759C ,2004-08-11

[10]

无掩模曝光装置 [P].

千田丽誉 .

中国专利 :CN202306138U ,2012-07-04

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