曝光用的光源装置、曝光装置及曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080018580.0

申请日：

2020-03-02

公开(公告)号：

CN113544589A

公开(公告)日：

2021-10-22

发明(设计)人：

松坂昌明榎本芳幸高濑和博矢部俊一松下智恒

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B2106

代理机构：

北京奉思知识产权代理有限公司 11464

代理人：

邹轶鲛;石红艳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-22	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光用光源、光照射装置、曝光装置及曝光方法 [P].

井上智彦 ;

山下健一 ;

渡边加名 ;

池田富彦 .

中国专利 :CN113917788A ,2022-01-11

[2]

曝光用照明装置、曝光装置以及曝光方法 [P].

榎本芳幸 ;

川岛洋德 .

中国专利 :CN111133386A ,2020-05-08

[3]

曝光用ＬＥＤ光源模块、曝光用ＬＥＤ光源装置及曝光用ＬＥＤ光源装置管理系统 [P].

李在庆 ;

吴玿永 ;

沈铉昌 ;

尹东吉 ;

金东映 ;

任祥均 ;

郑成容 ;

徐在寅 ;

朴锺植 ;

崔桓溶 ;

申美善 ;

金韩龙 .

中国专利 :CN103502723B ,2014-01-08

[4]

曝光用光源以及使用该曝光用光源的曝光装置 [P].

白井哲也 ;

清木芳彦 ;

中川敦二 .

中国专利 :CN101236358A ,2008-08-06

[5]

曝光用LED光源装置及曝光用LED光源装置管理系统 [P].

洪珍杓 ;

李在庆 ;

金明珍 ;

吴玿永 ;

沈铉昌 ;

闵圣琇 ;

赵洧章 ;

洪玉杓 .

中国专利 :CN105765459A ,2016-07-13

[6]

曝光用照明装置、曝光装置和曝光方法 [P].

川岛洋德 .

中国专利 :CN107615170B ,2018-01-19

[7]

曝光用光源装置 [P].

三浦雄一 ;

林贤志 .

中国专利 :CN112969969B ,2021-06-15

[8]

曝光用光源、曝光装置、曝光方法、以及面板基板的制造方法 [P].

森顺一 .

中国专利 :CN101154052B ,2008-04-02

[9]

曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置 [P].

麻籍文 ;

吉本芳幸 .

中国专利 :CN113711127A ,2021-11-26

[10]

投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法 [P].

饭塚和央 ;

磯端纯二 ;

田中信义 .

中国专利 :CN100343759C ,2004-08-11

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