离子注入的测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510345847.8

申请日：

2015-06-18

公开(公告)号：

CN106324654B

公开(公告)日：

2017-01-11

发明(设计)人：

肖志强

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G01T129

IPC分类号：

H01J37317

代理机构：

北京市磐华律师事务所 11336

代理人：

董巍;高伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-01-11	公开	公开
2019-04-09	授权	授权
2017-02-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101702032458 IPC(主分类):G01T 1/29 专利申请号:2015103458478 申请日:20150618

共 50 条

[1]

离子注入剂量的测量装置及其测量方法 [P].

杨健 ;

李岩 ;

马富林 .

中国专利 :CN109887858A ,2019-06-14

[2]

离子注入角度测量装置及离子注入系统 [P].

王锦喆 .

中国专利 :CN204230207U ,2015-03-25

[3]

离子束测量方法和离子注入装置 [P].

海势头圣 ;

滨本成显 .

中国专利 :CN1860381A ,2006-11-08

[4]

离子束测量方法和离子注入装置 [P].

海势头圣 ;

滨本成显 ;

池尻忠司 ;

田中浩平 .

中国专利 :CN101079362A ,2007-11-28

[5]

离子注入方法和离子注入系统 [P].

爱德华·艾伊斯勒 ;

伯·范德伯格 .

中国专利 :CN102884607B ,2013-01-16

[6]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

狩谷宏行 ;

高桥裕二 .

中国专利 :CN112242287A ,2021-01-19

[7]

离子注入方法及离子注入系统 [P].

艾义明 .

中国专利 :CN111162003B ,2020-05-15

[8]

离子注入设备及离子注入方法 [P].

应力平 ;

严骏 ;

裴雷洪 .

中国专利 :CN103972011B ,2014-08-06

[9]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

狩谷宏行 ;

高桥裕二 .

日本专利 :CN112242287B ,2024-10-08

[10]

离子注入系统及利用该系统的离子注入方法 [P].

金玄圭 ;

金相洙 .

中国专利 :CN102456530B ,2012-05-16

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