光学元件保持装置、镜筒、曝光装置以及器件的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880100236.5

申请日：

2008-05-20

公开(公告)号：

CN101772720A

公开(公告)日：

2010-07-07

发明(设计)人：

冈田尚也

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G02B702

IPC分类号：

G03F720 H01L21027 G02B7198

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

经志强;杨林森

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-09-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101005578614 IPC(主分类):G02B 7/02 专利申请号:2008801002365 申请日:20080520
2010-07-07	公开	公开
2012-01-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101262713191 IPC(主分类):G02B 7/02 专利申请号:2008801002365 公开日:20100707

共 50 条

[1]

光学元件保持装置、镜筒及曝光装置以及器件的制造方法 [P].

新井洋一 .

中国专利 :CN101681009B ,2010-03-24

[2]

光学元件保持装置、镜筒、曝光装置及设备的制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN100576003C ,2006-08-30

[3]

光学装置、镜筒、曝光装置、以及器件制造方法 [P].

石川光男 .

中国专利 :CN101048690A ,2007-10-03

[4]

光学元件驱动装置、镜筒、曝光装置及器件的制造方法 [P].

新井洋一 .

中国专利 :CN101681008A ,2010-03-24

[5]

保持装置、保持方法、曝光装置以及器件制造方法 [P].

萩原恒幸 ;

吉元宏充 ;

堀川浩人 ;

水谷英夫 .

中国专利 :CN1507649A ,2004-06-23

[6]

衬底保持装置、曝光装置以及器件制造方法 [P].

涩田慎 .

中国专利 :CN101076877A ,2007-11-21

[7]

基板保持装置、曝光装置以及器件制造方法 [P].

近藤诚 .

中国专利 :CN1427309A ,2003-07-02

[8]

保持装置、曝光装置和器件制造方法 [P].

须藤裕次 .

中国专利 :CN1252504C ,2003-10-01

[9]

光学元件、发光器件、以及制造光学元件的方法 [P].

毛塚浩一郎 ;

佐佐木裕人 .

中国专利 :CN1552115A ,2004-12-01

[10]

保持装置、控制方法、光学装置、曝光装置以及物品的制造方法 [P].

堀笼翔太 .

日本专利 :CN118818908A ,2024-10-22

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