含有环氧化合物和羧酸化合物的光刻用形成下层膜的组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910134351.0

申请日：

2004-04-01

公开(公告)号：

CN101560323B

公开(公告)日：

2009-10-21

发明(设计)人：

岸冈高广

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C08L6300

IPC分类号：

C08L10106 C08G5940 G03F711 H01L21027

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

段承恩;田欣

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-10-21	公开	公开
2012-07-04	授权	授权
2009-12-16	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

含有环氧化合物和羧酸化合物的光刻用形成下层膜的组合物 [P].

岸冈高广 .

中国专利 :CN101550265B ,2009-10-07

[2]

含有环氧化合物和羧酸化合物的光刻用形成下层膜的组合物 [P].

岸冈高广 .

中国专利 :CN1768306A ,2006-05-03

[3]

含有聚硅烷化合物的形成光刻用下层膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

桥本圭祐 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN101180579B ,2008-05-14

[4]

含有糊精酯化合物的形成下层膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

境田康志 ;

新城彻也 .

中国专利 :CN100573327C ,2006-12-06

[5]

含有具有被保护的羧基的化合物的形成光刻用下层膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

新城彻也 ;

桥本圭祐 ;

境田康志 .

中国专利 :CN101107569A ,2008-01-16

[6]

含环糊精化合物的形成光刻用下层膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

新城彻也 ;

桥本圭祐 .

中国专利 :CN101048705A ,2007-10-03

[7]

含有具有被保护的羧基的化合物的形成光刻用下层膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

岸冈高广 ;

境田康志 ;

新城彻也 .

中国专利 :CN100351309C ,2006-09-06

[8]

羧酸化合物及含有该羧酸化合物的环氧树脂组合物 [P].

宫川直房 ;

中西政隆 ;

佐佐木智江 ;

川田义浩 ;

洼木健一 ;

青木静 ;

铃木瑞观 .

中国专利 :CN102257039A ,2011-11-23

[9]

羧酸化合物及含有该化合物的医药 [P].

井上敬介 ;

当间勉 ;

北村崇博 ;

山崎行由 ;

石川哲也 .

中国专利 :CN100368374C ,2006-06-28

[10]

环氧化合物和含该环氧化合物的环氧树脂组合物 [P].

高田敏正 ;

中村英夫 .

中国专利 :CN1030234A ,1989-01-11

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