含环糊精化合物的形成光刻用下层膜的组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580037032.8

申请日：

2005-10-25

公开(公告)号：

CN101048705A

公开(公告)日：

2007-10-03

发明(设计)人：

竹井敏新城彻也桥本圭祐

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

段承恩;田欣

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-10	授权	授权
2007-10-03	公开	公开
2007-11-28	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

含有具有被保护的羧基的化合物的形成光刻用下层膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

新城彻也 ;

桥本圭祐 ;

境田康志 .

中国专利 :CN101107569A ,2008-01-16

[2]

含有聚硅烷化合物的形成光刻用下层膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

桥本圭祐 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN101180579B ,2008-05-14

[3]

含有糊精酯化合物的形成下层膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

境田康志 ;

新城彻也 .

中国专利 :CN100573327C ,2006-12-06

[4]

含有环氧化合物和羧酸化合物的光刻用形成下层膜的组合物 [P].

岸冈高广 .

中国专利 :CN1768306A ,2006-05-03

[5]

含有环氧化合物和羧酸化合物的光刻用形成下层膜的组合物 [P].

岸冈高广 .

中国专利 :CN101550265B ,2009-10-07

[6]

含有环氧化合物和羧酸化合物的光刻用形成下层膜的组合物 [P].

岸冈高广 .

中国专利 :CN101560323B ,2009-10-21

[7]

含有具有被保护的羧基的化合物的形成光刻用下层膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

岸冈高广 ;

境田康志 ;

新城彻也 .

中国专利 :CN100351309C ,2006-09-06

[8]

化合物、树脂、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜、图案形成方法及化合物或树脂的纯化方法 [P].

冈田佳奈 ;

堀内淳矢 ;

牧野嶋高史 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN107406383A ,2017-11-28

[9]

含环糊精和季铵化合物的眼用组合物 [P].

G·L·凯斯 ;

A·费茨 ;

C·肖赫 .

中国专利 :CN1196676A ,1998-10-21

[10]

使用了芴化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

德永光 ;

桥本圭祐 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN110546570A ,2019-12-06

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