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使用了芴化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201880027112.2
申请日：
2018-04-20
公开(公告)号：
CN110546570A
公开(公告)日：
2019-12-06
发明(设计)人：
德永光 桥本圭祐 坂本力丸
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F711
IPC分类号：
C08G6112 H01L21027
代理机构：
北京市中咨律师事务所 11247
代理人：
曾祯;段承恩
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-04-24 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/11 申请日:20180420
2019-12-06 公开 公开
共 50 条
[1]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN118786391A ,2024-10-15
[2]
使用了环式羰基化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
绪方裕斗 ;
桥本圭祐 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN112166379B ,2025-04-01
[3]
使用了环式羰基化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
绪方裕斗 ;
桥本圭祐 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN112166379A ,2021-01-01
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
光武祐希 .
日本专利 :CN120712524A ,2025-09-26
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07
[6]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13
[7]
包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
滨田聪志 ;
桥本圭祐 ;
坂本力丸 .
日本专利 :CN117539127A ,2024-02-09
[8]
包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
滨田聪志 ;
桥本圭祐 ;
坂本力丸 .
中国专利 :CN110192152A ,2019-08-30
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN115427891A ,2022-12-02
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
木村哲也 ;
西卷裕和 .
日本专利 :CN118103775A ,2024-05-28
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