包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311485456.7
申请日
2018-01-09
公开(公告)号
CN117539127A
公开(公告)日
2024-02-09
发明(设计)人
德永光 滨田聪志 桥本圭祐 坂本力丸
申请人
日产化学株式会社
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
G03F7/11
IPC分类号
H01L21/027 H01L21/308 H01L21/311 C08G12/34
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
孙丽梅;段承恩
法律状态
公开
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
滨田聪志 ;
桥本圭祐 ;
坂本力丸 .
中国专利 :CN110192152A ,2019-08-30
[2]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07
[3]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN118786391A ,2024-10-15
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 ;
光武祐希 ;
服部隼人 .
中国专利 :CN114174926A ,2022-03-11
[6]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
若山浩之 ;
水落龙太 ;
田村护 .
中国专利 :CN115066654A ,2022-09-16
[7]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
田村护 .
日本专利 :CN115916861B ,2024-10-29
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN114503032B ,2025-11-11
[10]
包含二醇结构的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
上林哲 ;
远藤勇树 .
日本专利 :CN118295212B ,2025-04-08