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包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311485456.7
申请日
:
2018-01-09
公开(公告)号
:
CN117539127A
公开(公告)日
:
2024-02-09
发明(设计)人
:
德永光
滨田聪志
桥本圭祐
坂本力丸
申请人
:
日产化学株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G03F7/11
IPC分类号
:
H01L21/027
H01L21/308
H01L21/311
C08G12/34
代理机构
:
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
:
孙丽梅;段承恩
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-09
公开
公开
2024-03-01
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/11申请日:20180109
共 50 条
[1]
包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
德永光
论文数:
0
引用数:
0
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0
德永光
;
滨田聪志
论文数:
0
引用数:
0
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0
滨田聪志
;
桥本圭祐
论文数:
0
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0
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0
桥本圭祐
;
坂本力丸
论文数:
0
引用数:
0
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0
坂本力丸
.
中国专利
:CN110192152A
,2019-08-30
[2]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
论文数:
0
引用数:
0
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0
绪方裕斗
;
广原知忠
论文数:
0
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0
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广原知忠
;
西卷裕和
论文数:
0
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0
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0
西卷裕和
;
中岛诚
论文数:
0
引用数:
0
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中岛诚
.
中国专利
:CN113906077A
,2022-01-07
[3]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
绪方裕斗
;
广原知忠
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0
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0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
广原知忠
;
西卷裕和
论文数:
0
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0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
西卷裕和
;
中岛诚
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
中岛诚
.
日本专利
:CN113906077B
,2024-08-13
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
光武祐希
论文数:
0
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0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
光武祐希
;
德永光
论文数:
0
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0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
德永光
.
日本专利
:CN118786391A
,2024-10-15
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
论文数:
0
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0
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0
绪方裕斗
;
西卷裕和
论文数:
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0
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0
西卷裕和
;
中岛诚
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0
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0
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中岛诚
;
光武祐希
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0
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0
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0
光武祐希
;
服部隼人
论文数:
0
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0
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0
服部隼人
.
中国专利
:CN114174926A
,2022-03-11
[6]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
清水祥
论文数:
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0
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0
清水祥
;
若山浩之
论文数:
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若山浩之
;
水落龙太
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水落龙太
;
田村护
论文数:
0
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0
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田村护
.
中国专利
:CN115066654A
,2022-09-16
[7]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
清水祥
论文数:
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
清水祥
;
田村护
论文数:
0
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0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
田村护
.
日本专利
:CN115916861B
,2024-10-29
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
论文数:
0
引用数:
0
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0
绪方裕斗
;
西卷裕和
论文数:
0
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0
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0
西卷裕和
;
中岛诚
论文数:
0
引用数:
0
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0
中岛诚
.
中国专利
:CN114503032A
,2022-05-13
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
绪方裕斗
;
西卷裕和
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0
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0
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
西卷裕和
;
中岛诚
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
中岛诚
.
日本专利
:CN114503032B
,2025-11-11
[10]
包含二醇结构的抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
上林哲
论文数:
0
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0
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
上林哲
;
远藤勇树
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
远藤勇树
.
日本专利
:CN118295212B
,2025-04-08
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