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包含二醇结构的抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410433349.8
申请日：
2021-06-11
公开(公告)号：
CN118295212B
公开(公告)日：
2025-04-08
发明(设计)人：
上林哲 远藤勇树
申请人：
日产化学株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
G03F7/11
IPC分类号：
H01L21/033
代理机构：
北京市中咨律师事务所 11247
代理人：
李渊茹;段承恩
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-04-08 授权 授权
2024-07-05 公开 公开
2024-07-23 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/11申请日:20210611
共 50 条
[1]
包含二醇结构的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
上林哲 ;
远藤勇树 .
中国专利 :CN115698857A ,2023-02-03
[2]
包含二醇结构的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
上林哲 ;
远藤勇树 .
日本专利 :CN119472173A ,2025-02-18
[3]
包含二醇结构的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
上林哲 ;
远藤勇树 .
日本专利 :CN118295212A ,2024-07-05
[4]
包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
滨田聪志 ;
桥本圭祐 ;
坂本力丸 .
日本专利 :CN117539127A ,2024-02-09
[5]
包含酰胺溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
滨田聪志 ;
桥本圭祐 ;
坂本力丸 .
中国专利 :CN110192152A ,2019-08-30
[6]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
水落龙太 ;
田村护 .
日本专利 :CN116194506B ,2025-07-25
[7]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
德永光 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN113544586A ,2021-10-22
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
德永光 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN113544586B ,2025-12-19
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
西田登喜雄 ;
坂本力丸 .
中国专利 :CN109690405B ,2019-04-26
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07
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