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抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202080033573.8
申请日：
2020-05-14
公开(公告)号：
CN113906077A
公开(公告)日：
2022-01-07
发明(设计)人：
绪方裕斗 广原知忠 西卷裕和 中岛诚
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
C08G5917
IPC分类号：
C08G5962 G03F711 H01L21027
代理机构：
北京市中咨律师事务所 11247
代理人：
李照明;段承恩
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2022-01-07 公开 公开
2022-06-07 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 59/17 申请日:20200514
共 50 条
[1]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13
[2]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13
[3]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 ;
光武祐希 ;
服部隼人 .
中国专利 :CN114174926A ,2022-03-11
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN114503032B ,2025-11-11
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN115427891A ,2022-12-02
[6]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
光武祐希 .
日本专利 :CN120712524A ,2025-09-26
[7]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
水落龙太 ;
田村护 .
日本专利 :CN116194506B ,2025-07-25
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
德永光 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN113544586A ,2021-10-22
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
德永光 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN113544586B ,2025-12-19
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
中岛诚 ;
西卷裕和 .
日本专利 :CN117980823A ,2024-05-03
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