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抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0
申请号：
CN202080070907.9
申请日：
2020-10-05
公开(公告)号：
CN114503032A
公开(公告)日：
2022-05-13
发明(设计)人：
绪方裕斗 西卷裕和 中岛诚
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F711
IPC分类号：
G03F716 G03F720 G03F726 H01L21027
代理机构：
北京市中咨律师事务所 11247
代理人：
田欣;段承恩
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2022-05-13 公开 公开
共 50 条
[1]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07
[2]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13
[3]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN114503032B ,2025-11-11
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 ;
光武祐希 ;
服部隼人 .
中国专利 :CN114174926A ,2022-03-11
[5]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
若山浩之 ;
水落龙太 ;
田村护 .
中国专利 :CN115066654A ,2022-09-16
[6]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN115427891A ,2022-12-02
[7]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN120641829A ,2025-09-12
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
中岛诚 ;
西卷裕和 .
日本专利 :CN117980823A ,2024-05-03
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
中岛诚 ;
西卷裕和 .
日本专利 :CN118974659A ,2024-11-15
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
加藤祐希 ;
绪方裕斗 ;
田村护 .
日本专利 :CN120584325A ,2025-09-02
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