抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202480012661.8
申请日
2024-02-15
公开(公告)号
CN120641829A
公开(公告)日
2025-09-12
发明(设计)人
光武祐希 德永光
申请人
日产化学株式会社
申请人地址
日本
IPC主分类号
G03F7/11
IPC分类号
G03F7/20 G03F7/26 G03F7/40 G03F7/42 H01L21/027
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
马妮楠;段承恩
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
中岛诚 ;
西卷裕和 .
日本专利 :CN118974659A ,2024-11-15
[2]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN115427891A ,2022-12-02
[3]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13
[6]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN114503032B ,2025-11-11
[7]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
泉皓仁 ;
远藤雅久 .
日本专利 :CN120883140A ,2025-10-31
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN118786391A ,2024-10-15
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 ;
光武祐希 ;
服部隼人 .
中国专利 :CN114174926A ,2022-03-11
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
光武祐希 ;
香西纯 .
日本专利 :CN119365829A ,2025-01-24