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抗蚀剂下层膜形成用组合物
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202480012661.8
申请日
:
2024-02-15
公开(公告)号
:
CN120641829A
公开(公告)日
:
2025-09-12
发明(设计)人
:
光武祐希
德永光
申请人
:
日产化学株式会社
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
G03F7/11
IPC分类号
:
G03F7/20
G03F7/26
G03F7/40
G03F7/42
H01L21/027
代理机构
:
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
:
马妮楠;段承恩
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-09-30
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/11申请日:20240215
2025-09-12
公开
公开
共 50 条
[1]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
德永光
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
德永光
;
中岛诚
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
中岛诚
;
西卷裕和
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0
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0
机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
西卷裕和
.
日本专利
:CN118974659A
,2024-11-15
[2]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
论文数:
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绪方裕斗
;
广原知忠
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广原知忠
;
西卷裕和
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西卷裕和
;
中岛诚
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0
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中岛诚
.
中国专利
:CN115427891A
,2022-12-02
[3]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
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绪方裕斗
;
西卷裕和
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西卷裕和
;
中岛诚
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中岛诚
.
中国专利
:CN114503032A
,2022-05-13
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
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绪方裕斗
;
广原知忠
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广原知忠
;
西卷裕和
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西卷裕和
;
中岛诚
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中岛诚
.
中国专利
:CN113906077A
,2022-01-07
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
绪方裕斗
;
广原知忠
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
广原知忠
;
西卷裕和
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
西卷裕和
;
中岛诚
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
中岛诚
.
日本专利
:CN113906077B
,2024-08-13
[6]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
绪方裕斗
;
西卷裕和
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
西卷裕和
;
中岛诚
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
中岛诚
.
日本专利
:CN114503032B
,2025-11-11
[7]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
泉皓仁
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
泉皓仁
;
远藤雅久
论文数:
0
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
远藤雅久
.
日本专利
:CN120883140A
,2025-10-31
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
光武祐希
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0
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
光武祐希
;
德永光
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
德永光
.
日本专利
:CN118786391A
,2024-10-15
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
绪方裕斗
论文数:
0
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绪方裕斗
;
西卷裕和
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西卷裕和
;
中岛诚
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中岛诚
;
光武祐希
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0
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光武祐希
;
服部隼人
论文数:
0
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0
服部隼人
.
中国专利
:CN114174926A
,2022-03-11
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物
[P].
德永光
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
德永光
;
光武祐希
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
光武祐希
;
香西纯
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机构:
日产化学株式会社
日产化学株式会社
香西纯
.
日本专利
:CN119365829A
,2025-01-24
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