学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审

抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202480021874.7
申请日：
2024-03-26
公开(公告)号：
CN120883140A
公开(公告)日：
2025-10-31
发明(设计)人：
泉皓仁 远藤雅久
申请人：
日产化学株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
G03F7/11
IPC分类号：
G03F7/20 G03F7/26 G03F7/40 G03F7/42
代理机构：
北京市中咨律师事务所 11247
代理人：
马妮楠;段承恩
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-10-31 公开 公开
2025-11-18 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/11申请日:20240326
共 50 条
[1]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN115427891A ,2022-12-02
[2]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13
[3]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN120641829A ,2025-09-12
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN118786391A ,2024-10-15
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 ;
光武祐希 ;
服部隼人 .
中国专利 :CN114174926A ,2022-03-11
[6]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
木村哲也 ;
西卷裕和 .
日本专利 :CN118103775A ,2024-05-28
[7]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
中岛诚 ;
西卷裕和 .
日本专利 :CN118974659A ,2024-11-15
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN114503032B ,2025-11-11
12345