抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202380031452.3
申请日
2023-03-20
公开(公告)号
CN118974659A
公开(公告)日
2024-11-15
发明(设计)人
德永光 中岛诚 西卷裕和
申请人
日产化学株式会社
申请人地址
日本
IPC主分类号
G03F7/11
IPC分类号
C08G12/08 G03F7/20
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
李渊茹;段承恩
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN120641829A ,2025-09-12
[2]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN115427891A ,2022-12-02
[3]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
中岛诚 ;
西卷裕和 .
日本专利 :CN117980823A ,2024-05-03
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07
[6]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13
[7]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
日本专利 :CN114503032B ,2025-11-11
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
泉皓仁 ;
远藤雅久 .
日本专利 :CN120883140A ,2025-10-31
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN118786391A ,2024-10-15
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
德永光 ;
光武祐希 ;
香西纯 .
日本专利 :CN119365829A ,2025-01-24