EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202180051243.6

申请日：

2021-08-20

公开(公告)号：

CN115916861B

公开(公告)日：

2024-10-29

发明(设计)人：

清水祥田村护

申请人：

日产化学株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F7/11

IPC分类号：

G03F7/26 G03F7/20 C08G59/18

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

王磊;段承恩

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-29	授权	授权

共 50 条

[1]

EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

清水祥 ;

水落龙太 ;

田村护 .

日本专利 :CN116194506B ,2025-07-25

[2]

EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

清水祥 ;

若山浩之 ;

水落龙太 ;

田村护 .

中国专利 :CN115066654A ,2022-09-16

[3]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 ;

光武祐希 ;

服部隼人 .

中国专利 :CN114174926A ,2022-03-11

[4]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07

[5]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13

[6]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13

[7]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

井形航维 ;

清水祥 ;

田村护 .

日本专利 :CN117836718A ,2024-04-05

[8]

EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

清水祥 ;

田村护 .

中国专利 :CN115053184A ,2022-09-13

[9]

EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

清水祥 ;

田村护 .

日本专利 :CN115053184B ,2024-12-06

[10]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

臼井友辉 ;

远藤雅久 ;

岸冈高广 .

中国专利 :CN110869852A ,2020-03-06

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