抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202280057684.1

申请日：

2022-08-17

公开(公告)号：

CN117836718A

公开(公告)日：

2024-04-05

发明(设计)人：

井形航维清水祥田村护

申请人：

日产化学株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

G03F7/11

IPC分类号：

C08F20/26 G03F7/20

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

田欣;段承恩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-23	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/11申请日:20220817
2024-04-05	公开	公开

共 50 条

[1]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

丸山大辅 ;

远藤贵文 ;

岸冈高广 .

日本专利 :CN119013627A ,2024-11-22

[2]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

广原知忠 ;

绪方裕斗 ;

田村护 .

日本专利 :CN119998732A ,2025-05-13

[3]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

桥本圭祐 ;

西卷裕和 ;

新城彻也 ;

染谷安信 ;

柄泽凉 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN105143979A ,2015-12-09

[4]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

境田康志 ;

高濑显司 ;

岸冈高广 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN109073977B ,2018-12-21

[5]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07

[6]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13

[7]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西卷裕和 ;

中岛诚 ;

桥本圭祐 .

中国专利 :CN112470076A ,2021-03-09

[8]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西卷裕和 ;

桥本圭祐 ;

远藤贵文 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN106462074A ,2017-02-22

[9]

EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

清水祥 ;

田村护 .

日本专利 :CN115916861B ,2024-10-29

[10]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

德永光 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113544586A ,2021-10-22

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