抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480021117.6

申请日：

2014-04-01

公开(公告)号：

CN105143979A

公开(公告)日：

2015-12-09

发明(设计)人：

桥本圭祐西卷裕和新城彻也染谷安信柄泽凉坂本力丸

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

C08G6102 C08L6500 H01L21027

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

黄媛;段承恩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-05-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101659078540 IPC(主分类):G03F 7/11 专利申请号:2014800211176 申请日:20140401
2015-12-09	公开	公开
2019-07-05	授权	授权

共 50 条

[1]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

井形航维 ;

清水祥 ;

田村护 .

日本专利 :CN117836718A ,2024-04-05

[2]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07

[3]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13

[4]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西卷裕和 ;

中岛诚 ;

桥本圭祐 .

中国专利 :CN112470076A ,2021-03-09

[5]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

德永光 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113544586A ,2021-10-22

[6]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13

[7]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

广原知忠 ;

绪方裕斗 ;

田村护 .

日本专利 :CN119998732A ,2025-05-13

[8]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

丸山大辅 ;

远藤贵文 ;

岸冈高广 .

日本专利 :CN119013627A ,2024-11-22

[9]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

德永光 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

日本专利 :CN113544586B ,2025-12-19

[10]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

德永光 ;

仓本悠太郎 ;

中岛诚 ;

滨田聪志 ;

三浦克也 .

中国专利 :CN115136074A ,2022-09-30

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