抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0

申请号：

CN202180015688.9

申请日：

2021-02-22

公开(公告)号：

CN115136074A

公开(公告)日：

2022-09-30

发明(设计)人：

德永光仓本悠太郎中岛诚滨田聪志三浦克也

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

G03F726 H01L21027

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

马妮楠;段承恩

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-30	公开	公开

共 50 条

[1]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

桥本圭祐 ;

西卷裕和 ;

新城彻也 ;

染谷安信 ;

柄泽凉 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN105143979A ,2015-12-09

[2]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07

[3]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13

[4]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西卷裕和 ;

中岛诚 ;

桥本圭祐 .

中国专利 :CN112470076A ,2021-03-09

[5]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

德永光 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113544586A ,2021-10-22

[6]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

井形航维 ;

清水祥 ;

田村护 .

日本专利 :CN117836718A ,2024-04-05

[7]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

水落龙太 ;

井形航维 ;

田村护 .

日本专利 :CN120677437A ,2025-09-19

[8]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

丸山大辅 ;

远藤贵文 ;

岸冈高广 .

日本专利 :CN119013627A ,2024-11-22

[9]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西卷裕和 ;

桥本圭祐 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN109154778B ,2019-01-04

[10]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

光武祐希 ;

德永光 .

日本专利 :CN118786391A ,2024-10-15

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