抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480014230.5

申请日：

2024-02-26

公开(公告)号：

CN120677437A

公开(公告)日：

2025-09-19

发明(设计)人：

水落龙太井形航维田村护

申请人：

日产化学株式会社

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G03F7/11

IPC分类号：

C08G59/48 C08G59/50 G03F7/26 H01L21/027

代理机构：

北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444

代理人：

张黎;王刚

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-10	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/11申请日:20240226
2025-09-19	公开	公开

共 50 条

[1]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

井形航维 ;

清水祥 ;

田村护 .

日本专利 :CN117836718A ,2024-04-05

[2]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

丸山大辅 ;

远藤贵文 ;

岸冈高广 .

日本专利 :CN119013627A ,2024-11-22

[3]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西卷裕和 ;

桥本圭祐 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN109154778B ,2019-01-04

[4]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

德永光 ;

仓本悠太郎 ;

中岛诚 ;

滨田聪志 ;

三浦克也 .

中国专利 :CN115136074A ,2022-09-30

[5]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

境田康志 ;

高濑显司 ;

岸冈高广 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN109073977B ,2018-12-21

[6]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN113906077A ,2022-01-07

[7]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

日本专利 :CN113906077B ,2024-08-13

[8]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西卷裕和 ;

桥本圭祐 ;

新城彻也 ;

远藤贵文 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN104508558B ,2015-04-08

[9]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西卷裕和 ;

中岛诚 ;

桥本圭祐 .

中国专利 :CN112470076A ,2021-03-09

[10]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

西卷裕和 ;

桥本圭祐 ;

远藤贵文 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN106462074A ,2017-02-22

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