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EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202180013074.7
申请日：
2021-02-05
公开(公告)号：
CN115053184B
公开(公告)日：
2024-12-06
发明(设计)人：
清水祥 田村护
申请人：
日产化学株式会社
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F7/11
IPC分类号：
G03F7/20 H01L21/027 C08F8/30
代理机构：
北京市中咨律师事务所 11247
代理人：
田欣;段承恩
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-12-06 授权 授权
共 50 条
[1]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
田村护 .
中国专利 :CN115053184A ,2022-09-13
[2]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
若山浩之 ;
水落龙太 ;
田村护 .
中国专利 :CN115066654A ,2022-09-16
[3]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
水落龙太 ;
田村护 .
日本专利 :CN116194506B ,2025-07-25
[4]
EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
田村护 .
日本专利 :CN115916861B ,2024-10-29
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN115427891A ,2022-12-02
[6]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13
[7]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN120641829A ,2025-09-12
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
泉皓仁 ;
远藤雅久 .
日本专利 :CN120883140A ,2025-10-31
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN118786391A ,2024-10-15
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
木村哲也 ;
西卷裕和 .
日本专利 :CN118103775A ,2024-05-28
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