感放射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜以及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310131736.8
申请日
2013-04-16
公开(公告)号
CN103376649A
公开(公告)日
2013-10-30
发明(设计)人
八代隆郎 松村信司 高瀬英明
申请人
申请人地址
日本东京港区东新桥一丁目9番2号
IPC主分类号
G03F7004
IPC分类号
G03F7039 G03F7029 G03F7031 G03F700
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
臧建明
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
感放射线性组合物、层间绝缘膜及其制造方法、以及显示元件 [P]. 
角田裕志 .
中国专利 :CN115704996A ,2023-02-17
[2]
正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法 [P]. 
一户大吾 .
中国专利 :CN102859439B ,2013-01-02
[3]
正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法 [P]. 
一户大吾 .
中国专利 :CN102870047B ,2013-01-09
[4]
液晶显示元件及其制造方法、感放射线性组合物、层间绝缘膜及其制造方法 [P]. 
角田裕志 ;
徳本爱香 .
日本专利 :CN113219690B ,2025-09-16
[5]
液晶显示元件及其制造方法、感放射线性组合物、层间绝缘膜及其制造方法 [P]. 
角田裕志 ;
徳本爱香 .
中国专利 :CN113219690A ,2021-08-06
[6]
感放射线性树脂组合物、显示元件用间隔件及层间绝缘膜的形成方法、以及显示元件 [P]. 
西信弘 ;
西川耕二 ;
中川刚志 .
中国专利 :CN104950575B ,2015-09-30
[7]
感放射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜及其形成方法 [P]. 
花村政晓 ;
吉田伸 ;
饭岛孝浩 .
中国专利 :CN101324755A ,2008-12-17
[8]
感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件以及显示元件 [P]. 
蛸岛薫 ;
三村时生 .
日本专利 :CN119065201A ,2024-12-03
[9]
感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件以及显示元件 [P]. 
成子朗人 .
日本专利 :CN118818897A ,2024-10-22
[10]
感放射线性组合物、图案形成方法及感放射线性酸产生剂 [P]. 
根本龙一 ;
三田伦广 ;
西井厚登 ;
稻见甫 .
日本专利 :CN120266060A ,2025-07-04