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用于沟槽的光学测量的目标
被引:0
申请号
:
CN202180037337.8
申请日
:
2021-04-16
公开(公告)号
:
CN115668471A
公开(公告)日
:
2023-01-31
发明(设计)人
:
N·J·凯勒
G·A·安东内利
申请人
:
申请人地址
:
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
:
H01L2166
IPC分类号
:
H10B4327
G01N2195
G01N21552
代理机构
:
北京市汉坤律师事务所 11602
代理人
:
魏小薇;吴丽丽
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2023-01-31
公开
公开
2023-02-17
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20210416
共 50 条
[1]
用于测量目标物尺寸的光学测量仪
[P].
吴海龙
论文数:
0
引用数:
0
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0
吴海龙
.
中国专利
:CN204461345U
,2015-07-08
[2]
用于光学测量至反射的目标物体的距离的设备
[P].
T·戈戈拉
论文数:
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T·戈戈拉
;
A·温特
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A·温特
.
中国专利
:CN107636483A
,2018-01-26
[3]
用于空间目标远近场光学特性测量的装置
[P].
孟刚
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0
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孟刚
;
南华
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0
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南华
;
薛莲
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薛莲
;
周岩
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周岩
;
李亚男
论文数:
0
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李亚男
;
白文浩
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0
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白文浩
;
范小礼
论文数:
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范小礼
;
邓蓉
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0
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邓蓉
;
水涌涛
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水涌涛
;
刘佳琪
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刘佳琪
;
刘成国
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0
刘成国
;
陈福泰
论文数:
0
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0
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0
陈福泰
.
中国专利
:CN109459215B
,2019-03-12
[4]
用于光学测量的测量系统
[P].
L·托贝沙特
论文数:
0
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0
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机构:
微-埃普西龙光电股份有限公司
微-埃普西龙光电股份有限公司
L·托贝沙特
;
C·格鲁伯
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0
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0
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机构:
微-埃普西龙光电股份有限公司
微-埃普西龙光电股份有限公司
C·格鲁伯
;
T·维斯培特纳
论文数:
0
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0
机构:
微-埃普西龙光电股份有限公司
微-埃普西龙光电股份有限公司
T·维斯培特纳
.
德国专利
:CN113574345B
,2024-07-05
[5]
用于光学测量的测量系统
[P].
L·托贝沙特
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L·托贝沙特
;
C·格鲁伯
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C·格鲁伯
;
T·维斯培特纳
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0
T·维斯培特纳
.
中国专利
:CN113574345A
,2021-10-29
[6]
一种用于测量目标物尺寸的光学测量仪
[P].
吴海龙
论文数:
0
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0
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0
吴海龙
.
中国专利
:CN104567596A
,2015-04-29
[7]
光学测量装置和用于光学测量的方法
[P].
V·萨为普朗斯莱泊恩
论文数:
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V·萨为普朗斯莱泊恩
;
M·I·B·M·卡西姆
论文数:
0
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0
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0
M·I·B·M·卡西姆
.
中国专利
:CN103327886A
,2013-09-25
[8]
光学杯(用于样品的光学测量)
[P].
约翰·S·劳朵
论文数:
0
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0
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0
约翰·S·劳朵
;
加尔·英贝尔
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加尔·英贝尔
;
威廉·G·阿特伯里
论文数:
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威廉·G·阿特伯里
;
托马斯·A·克劳辛
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托马斯·A·克劳辛
;
戴夫·霍利
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戴夫·霍利
;
约翰·泰拉瑞科
论文数:
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0
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0
约翰·泰拉瑞科
.
中国专利
:CN301344435S
,2010-09-08
[9]
用于光学测量系统的测量装置
[P].
T.赫尔德
论文数:
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T.赫尔德
;
D.考夫曼
论文数:
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0
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0
D.考夫曼
.
中国专利
:CN107883882B
,2018-04-06
[10]
用于执行光学测量的测量单元
[P].
安德烈亚斯·米勒
论文数:
0
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机构:
恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
安德烈亚斯·米勒
;
汉斯·迈尔
论文数:
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机构:
恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
汉斯·迈尔
;
马蒂亚斯·格罗斯曼
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机构:
恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
马蒂亚斯·格罗斯曼
.
德国专利
:CN118050060A
,2024-05-17
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