供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910178381.1

申请日：

2009-11-25

公开(公告)号：

CN101750897A

公开(公告)日：

2010-06-23

发明(设计)人：

朴相旭高在升

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

G03F730

代理机构：

北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290

代理人：

梁兴龙;武玉琴

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-02-13	授权	授权
2010-06-23	公开	公开
2010-08-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101004903009 IPC(主分类):G03F 7/16 专利申请号:2009101783811 申请日:20091125

共 50 条

[1]

供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法 [P].

朴相旭 ;

高在升 .

中国专利 :CN102636960A ,2012-08-15

[2]

基材支撑单元以及使用该基材支撑单元处理基材的设备 [P].

郑惠善 ;

李昇浩 .

中国专利 :CN101409247A ,2009-04-15

[3]

处理液供应单元以及基板处理设备 [P].

吴来泽 ;

李铉优 .

中国专利 :CN106356319A ,2017-01-25

[4]

基材处理设备以及使用该基材处理设备处理基材的方法 [P].

金性洙 .

中国专利 :CN101431006A ,2009-05-13

[5]

基材支撑单元以及使用它的基材处理设备和方法 [P].

李泽烨 ;

金奉主 .

中国专利 :CN101211811A ,2008-07-02

[6]

基材支撑单元以及使用它的基材处理设备和方法 [P].

黄东淳 ;

金兑寅 ;

洪性真 .

中国专利 :CN101409219A ,2009-04-15

[7]

处理液供应单元、基板处理装置以及基板处理设备 [P].

李成洙 ;

孙东熙 ;

崔文植 .

韩国专利 :CN117594474A ,2024-02-23

[8]

喷嘴以及使用该喷嘴处理基材的设备和方法 [P].

朴性云 ;

朴相旭 ;

高在升 .

中国专利 :CN101738875A ,2010-06-16

[9]

具备处理液供应单元的基板处理装置以及基板处理方法 [P].

梁承太 ;

金钟翰 ;

河道炅 .

中国专利 :CN114628278A ,2022-06-14

[10]

烘烤单元、包括该单元的基板处理设备以及基板处理方法 [P].

严基象 ;

徐钟锡 .

中国专利 :CN105321853A ,2016-02-10

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