处理液供应单元以及基板处理设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610547893.0
申请日
2016-07-12
公开(公告)号
CN106356319A
公开(公告)日
2017-01-25
发明(设计)人
吴来泽 李铉优
申请人
申请人地址
韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
代理机构
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
代理人
赵莎
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
处理液供应单元、基板处理装置以及基板处理设备 [P]. 
李成洙 ;
孙东熙 ;
崔文植 .
韩国专利 :CN117594474A ,2024-02-23
[2]
液体供应单元、基板处理装置以及基板处理设备 [P]. 
方成镇 ;
吴昌石 .
韩国专利 :CN118033981A ,2024-05-14
[3]
具备处理液供应单元的基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
梁承太 ;
金钟翰 ;
河道炅 .
中国专利 :CN114628278A ,2022-06-14
[4]
液体供应单元、基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
李承汉 .
中国专利 :CN108803257B ,2018-11-13
[5]
基板处理设备和处理溶液供应单元 [P]. 
金旻炅 ;
黄准吉 ;
金俙焕 .
韩国专利 :CN119673801A ,2025-03-21
[6]
基板处理设备和流体供应单元 [P]. 
张旭相 ;
沈载雄 ;
金东郁 ;
金仁会 .
韩国专利 :CN119069331A ,2024-12-03
[7]
液体供应单元和基板处理设备 [P]. 
金顺铉 ;
金耿民 .
韩国专利 :CN118268176A ,2024-07-02
[8]
供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法 [P]. 
朴相旭 ;
高在升 .
中国专利 :CN101750897A ,2010-06-23
[9]
供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法 [P]. 
朴相旭 ;
高在升 .
中国专利 :CN102636960A ,2012-08-15
[10]
处理液供应装置以及处理液供应方法 [P]. 
李茂贤 .
中国专利 :CN114724974A ,2022-07-08