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处理液供应单元以及基板处理设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610547893.0
申请日
:
2016-07-12
公开(公告)号
:
CN106356319A
公开(公告)日
:
2017-01-25
发明(设计)人
:
吴来泽
李铉优
申请人
:
申请人地址
:
韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
代理机构
:
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
代理人
:
赵莎
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-01-25
公开
公开
2017-03-01
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101705790515 IPC(主分类):H01L 21/67 专利申请号:2016105478930 申请日:20160712
2019-06-21
授权
授权
共 50 条
[1]
处理液供应单元、基板处理装置以及基板处理设备
[P].
李成洙
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李成洙
;
孙东熙
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
孙东熙
;
崔文植
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
崔文植
.
韩国专利
:CN117594474A
,2024-02-23
[2]
液体供应单元、基板处理装置以及基板处理设备
[P].
方成镇
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0
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0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
方成镇
;
吴昌石
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
吴昌石
.
韩国专利
:CN118033981A
,2024-05-14
[3]
具备处理液供应单元的基板处理装置以及基板处理方法
[P].
梁承太
论文数:
0
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0
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0
梁承太
;
金钟翰
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0
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0
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0
金钟翰
;
河道炅
论文数:
0
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0
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0
河道炅
.
中国专利
:CN114628278A
,2022-06-14
[4]
液体供应单元、基板处理装置以及基板处理方法
[P].
李承汉
论文数:
0
引用数:
0
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0
李承汉
.
中国专利
:CN108803257B
,2018-11-13
[5]
基板处理设备和处理溶液供应单元
[P].
金旻炅
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0
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0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金旻炅
;
黄准吉
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0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
黄准吉
;
金俙焕
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0
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0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金俙焕
.
韩国专利
:CN119673801A
,2025-03-21
[6]
基板处理设备和流体供应单元
[P].
张旭相
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0
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0
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
张旭相
;
沈载雄
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0
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0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
沈载雄
;
金东郁
论文数:
0
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0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金东郁
;
金仁会
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0
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0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金仁会
.
韩国专利
:CN119069331A
,2024-12-03
[7]
液体供应单元和基板处理设备
[P].
金顺铉
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金顺铉
;
金耿民
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0
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0
机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金耿民
.
韩国专利
:CN118268176A
,2024-07-02
[8]
供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法
[P].
朴相旭
论文数:
0
引用数:
0
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0
朴相旭
;
高在升
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高在升
.
中国专利
:CN101750897A
,2010-06-23
[9]
供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法
[P].
朴相旭
论文数:
0
引用数:
0
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0
朴相旭
;
高在升
论文数:
0
引用数:
0
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0
高在升
.
中国专利
:CN102636960A
,2012-08-15
[10]
处理液供应装置以及处理液供应方法
[P].
李茂贤
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李茂贤
.
中国专利
:CN114724974A
,2022-07-08
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