处理液供应装置以及处理液供应方法

被引：0

申请号：

CN202110848339.7

申请日：

2021-07-27

公开(公告)号：

CN114724974A

公开(公告)日：

2022-07-08

发明(设计)人：

李茂贤

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

北京钲霖知识产权代理有限公司 11722

代理人：

李英艳;玉昌峰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20210727
2022-07-08	公开	公开

共 50 条

[1]

处理液供应装置以及处理液供应方法 [P].

李茂贤 .

韩国专利 :CN114724974B ,2025-11-21

[2]

处理液供应装置以及处理液供应装置的固体去除方法 [P].

李茂贤 .

中国专利 :CN114724975A ,2022-07-08

[3]

一种处理液供应装置的控制方法及处理液供应装置 [P].

陈浩 ;

杨玉辉 ;

李绪 ;

熊泰贻 ;

廖昌洋 .

中国专利 :CN110808218B ,2020-02-18

[4]

循环液供应装置及循环液供应方法 [P].

胡显春 ;

温德烙 ;

覃朝真 ;

郭召永 ;

吕启涛 ;

高云峰 .

中国专利 :CN107588221A ,2018-01-16

[5]

处理液供应单元、基板处理装置以及基板处理设备 [P].

李成洙 ;

孙东熙 ;

崔文植 .

韩国专利 :CN117594474A ,2024-02-23

[6]

基板处理装置以及基板处理装置的气体供应方法 [P].

金永彬 ;

安显植 .

韩国专利 :CN118668183A ,2024-09-20

[7]

研磨液供应装置、供应方法及研磨系统 [P].

戴翔 ;

陈鸿泽 ;

雷炀烊 ;

戚智超 .

中国专利 :CN117564941A ,2024-02-20

[8]

润湿液供应方法和装置 [P].

曾根康夫 ;

山本浩幸 .

中国专利 :CN1219470A ,1999-06-16

[9]

处理液供应单元以及基板处理设备 [P].

吴来泽 ;

李铉优 .

中国专利 :CN106356319A ,2017-01-25

[10]

具备处理液供应单元的基板处理装置以及基板处理方法 [P].

梁承太 ;

金钟翰 ;

河道炅 .

中国专利 :CN114628278A ,2022-06-14

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