一种处理液供应装置的控制方法及处理液供应装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911011890.5

申请日：

2019-10-23

公开(公告)号：

CN110808218B

公开(公告)日：

2020-02-18

发明(设计)人：

陈浩杨玉辉李绪熊泰贻廖昌洋

申请人：

申请人地址：

430074 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

北京派特恩知识产权代理有限公司 11270

代理人：

李洋;张颖玲

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-18	公开	公开
2020-03-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20191023
2022-07-08	授权	授权

共 50 条

[1]

处理液供应装置以及处理液供应方法 [P].

李茂贤 .

中国专利 :CN114724974A ,2022-07-08

[2]

处理液供应装置以及处理液供应方法 [P].

李茂贤 .

韩国专利 :CN114724974B ,2025-11-21

[3]

处理液供应装置以及处理液供应装置的固体去除方法 [P].

李茂贤 .

中国专利 :CN114724975A ,2022-07-08

[4]

具备处理液供应单元的基板处理装置以及基板处理方法 [P].

梁承太 ;

金钟翰 ;

河道炅 .

中国专利 :CN114628278A ,2022-06-14

[5]

循环液供应装置及循环液供应方法 [P].

胡显春 ;

温德烙 ;

覃朝真 ;

郭召永 ;

吕启涛 ;

高云峰 .

中国专利 :CN107588221A ,2018-01-16

[6]

处理液供应单元、基板处理装置以及基板处理设备 [P].

李成洙 ;

孙东熙 ;

崔文植 .

韩国专利 :CN117594474A ,2024-02-23

[7]

清洁液供应单元、基板处理装置及基板处理方法 [P].

赵旼熙 ;

刘在赫 ;

吴世勋 ;

金兑根 ;

延蕊林 ;

吴海琳 ;

郑址洙 .

中国专利 :CN109411389A ,2019-03-01

[8]

气体供应装置、气体供应控制方法以及基板处理装置 [P].

洪学均 ;

李钟硕 ;

尹基才 ;

赵明熙 .

韩国专利 :CN118899240A ,2024-11-05

[9]

液处理装置及液处理方法 [P].

香川興司 ;

溝田昌吾 ;

东岛治郎 .

中国专利 :CN102629563B ,2012-08-08

[10]

液处理装置及液处理方法 [P].

东岛治郎 ;

绪方信博 ;

金子聪 ;

长峰秀一 ;

甲斐义广 .

中国专利 :CN102553851A ,2012-07-11

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