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基板处理设备和处理溶液供应单元

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411084937.1
申请日：
2024-08-08
公开(公告)号：
CN119673801A
公开(公告)日：
2025-03-21
发明(设计)人：
金旻炅 黄准吉 金俙焕
申请人：
细美事有限公司
申请人地址：
韩国忠清南道
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
代理机构：
北京市中伦律师事务所 11410
代理人：
杨黎峰;王奕勋
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-03-21 公开 公开
共 50 条
[1]
基板处理设备和流体供应单元 [P]. 
张旭相 ;
沈载雄 ;
金东郁 ;
金仁会 .
韩国专利 :CN119069331A ,2024-12-03
[2]
液体供应单元和基板处理设备 [P]. 
金顺铉 ;
金耿民 .
韩国专利 :CN118268176A ,2024-07-02
[3]
处理液供应单元以及基板处理设备 [P]. 
吴来泽 ;
李铉优 .
中国专利 :CN106356319A ,2017-01-25
[4]
处理液供应单元、基板处理装置以及基板处理设备 [P]. 
李成洙 ;
孙东熙 ;
崔文植 .
韩国专利 :CN117594474A ,2024-02-23
[5]
基板处理设备、基板支撑单元和基板处理方法 [P]. 
李相起 ;
河刚来 .
中国专利 :CN111223737B ,2020-06-02
[6]
液体供应单元、基板处理装置以及基板处理设备 [P]. 
方成镇 ;
吴昌石 .
韩国专利 :CN118033981A ,2024-05-14
[7]
化学物质供应单元、基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
尹泰锡 ;
朴贤淑 .
韩国专利 :CN113130351B ,2025-01-14
[8]
化学物质供应单元、基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
尹泰锡 ;
朴贤淑 .
中国专利 :CN113130351A ,2021-07-16
[9]
流体供应单元和具有流体供应单元的基板处理装置 [P]. 
朴仁煌 ;
朴贵秀 ;
李暎熏 ;
崔永燮 ;
吴承勋 ;
禹钟贤 ;
诸振模 .
韩国专利 :CN112216630B ,2024-12-17
[10]
流体供应单元和具有流体供应单元的基板处理装置 [P]. 
朴仁煌 ;
朴贵秀 ;
李暎熏 ;
崔永燮 ;
吴承勋 ;
禹钟贤 ;
诸振模 .
中国专利 :CN112216630A ,2021-01-12
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