流体供应单元和具有流体供应单元的基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010658763.0

申请日：

2020-07-09

公开(公告)号：

CN112216630A

公开(公告)日：

2021-01-12

发明(设计)人：

朴仁煌朴贵秀李暎熏崔永燮吴承勋禹钟贤诸振模

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人：

侯志源

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200709
2021-01-12	公开	公开

共 50 条

[1]

流体供应单元和具有流体供应单元的基板处理装置 [P].

朴仁煌 ;

朴贵秀 ;

李暎熏 ;

崔永燮 ;

吴承勋 ;

禹钟贤 ;

诸振模 .

韩国专利 :CN112216630B ,2024-12-17

[2]

流体供应单元、基板处理装置以及流体控制方法 [P].

金泰成 ;

孙德铉 .

韩国专利 :CN119965071A ,2025-05-09

[3]

用于供应流体的单元及用该单元处理基板的装置和方法 [P].

金俙焕 ;

李暎熏 .

中国专利 :CN107437518A ,2017-12-05

[4]

液体供应单元和基板处理装置 [P].

梁承太 ;

郑富荣 ;

赵乘桓 .

中国专利 :CN112151413A ,2020-12-29

[5]

液体供应单元和基板处理装置 [P].

梁承太 ;

郑富荣 ;

赵乘桓 .

韩国专利 :CN112151413B ,2024-09-13

[6]

气体供应单元及包括气体供应单元的基板处理装置 [P].

金永勋 ;

韩镕圭 ;

金大渊 ;

张显秀 ;

李政镐 .

中国专利 :CN108070846B ,2018-05-25

[7]

流体处理单元和使用该流体处理单元的流体处理装置 [P].

池谷聪 ;

山田恭平 ;

河原纪之 .

中国专利 :CN101551400B ,2009-10-07

[8]

流体处理单元和使用该单元的流体处理装置 [P].

河原纪之 ;

山田恭平 ;

池谷聪 .

中国专利 :CN101311727B ,2008-11-26

[9]

基板处理设备和处理溶液供应单元 [P].

金旻炅 ;

黄准吉 ;

金俙焕 .

韩国专利 :CN119673801A ,2025-03-21

[10]

喷淋头单元、气体供应单元和具有气体供应单元的衬底处理装置 [P].

方济午 ;

李承桓 ;

殷吉洙 ;

金善韵 .

韩国专利 :CN120205346A ,2025-06-27

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