流体处理单元和使用该单元的流体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810108740.1

申请日：

2008-05-23

公开(公告)号：

CN101311727B

公开(公告)日：

2008-11-26

发明(设计)人：

河原纪之山田恭平池谷聪

申请人：

申请人地址：

日本埼玉县

IPC主分类号：

G01N3500

IPC分类号：

G01N3348 G01N2100

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

张兰英

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-11-26	公开	公开
2013-08-28	授权	授权
2010-05-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001478075 IPC(主分类):G01N 35/00 专利申请号:2008101087401 申请日:20080523
2017-07-14	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101734159237 IPC(主分类):G01N 35/00 专利号:ZL2008101087401 申请日:20080523 授权公告日:20130828 终止日期:20160523

共 50 条

[1]

流体处理单元和使用该流体处理单元的流体处理装置 [P].

池谷聪 ;

山田恭平 ;

河原纪之 .

中国专利 :CN101551400B ,2009-10-07

[2]

流体处理单元、流体处理组件以及流体处理装置 [P].

周耀周 .

中国专利 :CN102190336B ,2011-09-21

[3]

流体供应单元和具有流体供应单元的基板处理装置 [P].

朴仁煌 ;

朴贵秀 ;

李暎熏 ;

崔永燮 ;

吴承勋 ;

禹钟贤 ;

诸振模 .

韩国专利 :CN112216630B ,2024-12-17

[4]

流体供应单元和具有流体供应单元的基板处理装置 [P].

朴仁煌 ;

朴贵秀 ;

李暎熏 ;

崔永燮 ;

吴承勋 ;

禹钟贤 ;

诸振模 .

中国专利 :CN112216630A ,2021-01-12

[5]

用于供应流体的单元及用该单元处理基板的装置和方法 [P].

金俙焕 ;

李暎熏 .

中国专利 :CN107437518A ,2017-12-05

[6]

流体处理方法和该方法中使用的流体处理装置以及流体处理系统 [P].

砂永伸也 .

中国专利 :CN111542741A ,2020-08-14

[7]

流体处理装置及包含该流体处理装置的流体处理系统 [P].

砂永伸也 ;

铃木诚一郎 ;

小野航一 .

中国专利 :CN115370789A ,2022-11-22

[8]

流体供应单元、基板处理装置以及流体控制方法 [P].

金泰成 ;

孙德铉 .

韩国专利 :CN119965071A ,2025-05-09

[9]

处理流体的方法和流体处理装置 [P].

A·谢弗 ;

T·沃特 ;

M·兹宾登 .

中国专利 :CN101312788B ,2008-11-26

[10]

流体处理装置和处理流体的方法 [P].

格雷戈尔·斯兹尔维克 ;

马克·凯勒 ;

尼尔斯·泡斯特 ;

托拜厄斯·哈特森劳伯 .

中国专利 :CN109641208A ,2019-04-16

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