化学物质供应单元、基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011609935.1

申请日：

2020-12-30

公开(公告)号：

CN113130351B

公开(公告)日：

2025-01-14

发明(设计)人：

尹泰锡朴贤淑

申请人：

细美事有限公司

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

B08B3/02

代理机构：

北京市中伦律师事务所 11410

代理人：

杨黎峰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-14	授权	授权

共 50 条

[1]

化学物质供应单元、基板处理装置和基板处理方法 [P].

尹泰锡 ;

朴贤淑 .

中国专利 :CN113130351A ,2021-07-16

[2]

化学品供应单元和基板处理装置 [P].

郑富荣 ;

柳镇泽 ;

宋吉勋 ;

朴善用 .

中国专利 :CN107342249B ,2017-11-10

[3]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

崔峻荣 ;

李钟斗 .

中国专利 :CN113921420A ,2022-01-11

[4]

液体供应单元、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

李承汉 .

中国专利 :CN108803257B ,2018-11-13

[5]

液体供应单元和基板处理装置 [P].

梁承太 ;

郑富荣 ;

赵乘桓 .

中国专利 :CN112151413A ,2020-12-29

[6]

液体供应单元和基板处理装置 [P].

梁承太 ;

郑富荣 ;

赵乘桓 .

韩国专利 :CN112151413B ,2024-09-13

[7]

清洁液供应单元、基板处理装置及基板处理方法 [P].

赵旼熙 ;

刘在赫 ;

吴世勋 ;

金兑根 ;

延蕊林 ;

吴海琳 ;

郑址洙 .

中国专利 :CN109411389A ,2019-03-01

[8]

处理液供应单元、基板处理装置以及基板处理设备 [P].

李成洙 ;

孙东熙 ;

崔文植 .

韩国专利 :CN117594474A ,2024-02-23

[9]

液体供应单元、基板处理装置以及基板处理设备 [P].

方成镇 ;

吴昌石 .

韩国专利 :CN118033981A ,2024-05-14

[10]

基板处理设备和处理溶液供应单元 [P].

金旻炅 ;

黄准吉 ;

金俙焕 .

韩国专利 :CN119673801A ,2025-03-21

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