用于单晶硅片化学机械抛光的抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910187632.2

申请日：

2009-09-27

公开(公告)号：

CN101671528A

公开(公告)日：

2010-03-17

发明(设计)人：

侯军程宝君吴聪

申请人：

申请人地址：

116023辽宁省大连市高新园区学子街99号

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

代理机构：

大连非凡专利事务所

代理人：

闪红霞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-03-17	公开	公开
2013-10-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101668260523 IPC(主分类):H01L 21/461 专利申请号:2009101876322 申请公布日:20100317
2011-04-13	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101062754582 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2009101876322 申请日:20090927

共 50 条

[1]

一种用于单晶硅化学机械抛光的抛光液及化学机械抛光方法 [P].

陆斯文 ;

夏菁菁 ;

王占山 .

中国专利 :CN117736653A ,2024-03-22

[2]

化学机械抛光液 [P].

赵铁均 ;

张延风 ;

杜新蕊 .

中国专利 :CN118813141A ,2024-10-22

[3]

化学机械抛光液 [P].

赵铁均 ;

张延风 ;

杜新蕊 .

中国专利 :CN118813141B ,2025-04-01

[4]

化学机械抛光液 [P].

王良咏 ;

宋志棠 ;

刘卫丽 ;

刘波 ;

钟旻 ;

何敖东 .

中国专利 :CN102690604A ,2012-09-26

[5]

一种化学机械抛光液 [P].

马健 ;

荆建芬 ;

杨俊雅 ;

王曦 ;

郑闪闪 ;

蔡鑫元 ;

唐浩杰 ;

周靖宇 ;

张然 ;

魏佳 ;

陆弘毅 .

中国专利 :CN118271968A ,2024-07-02

[6]

一种用于化学机械抛光的抛光液及化学机械抛光方法 [P].

张力飞 ;

王同庆 ;

路新春 .

中国专利 :CN116240550B ,2025-04-15

[7]

硅片化学机械抛光液及制备方法 [P].

何雨豪 ;

邢怀勇 ;

朱颜 .

中国专利 :CN117603626A ,2024-02-27

[8]

用于化学机械抛光的抛光液防溅装置和化学机械抛光设备 [P].

梁清波 ;

王同庆 .

中国专利 :CN114367920A ,2022-04-19

[9]

用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液 [P].

刘玉岭 ;

刘长宇 ;

牛新环 ;

康静业 .

中国专利 :CN1858133A ,2006-11-08

[10]

适用于蓝宝石抛光的化学机械抛光液 [P].

张泽芳 ;

彭诗月 .

中国专利 :CN108997940A ,2018-12-14

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