NMOS金属栅极晶体管的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201310342569.1
申请日
2013-08-07
公开(公告)号
CN104347377B
公开(公告)日
2015-02-11
发明(设计)人
张海洋 李凤莲
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L2128
IPC分类号
H01L21336
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
金属栅极晶体管的形成方法 [P]. 
刘焕新 .
中国专利 :CN104241129A ,2014-12-24
[2]
金属栅极晶体管的形成方法 [P]. 
刘焕新 .
中国专利 :CN104241131A ,2014-12-24
[3]
金属栅极和MOS晶体管的形成方法 [P]. 
王新鹏 .
中国专利 :CN102856178A ,2013-01-02
[4]
金属栅极和MOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN102956465A ,2013-03-06
[5]
金属栅极及MOS晶体管的形成方法 [P]. 
李凤莲 .
中国专利 :CN102479691A ,2012-05-30
[6]
金属栅极及MOS晶体管的形成方法 [P]. 
倪景华 .
中国专利 :CN102800577B ,2012-11-28
[7]
NMOS晶体管的形成方法 [P]. 
林仰魁 ;
陈志豪 ;
卢炯平 .
中国专利 :CN102646590B ,2012-08-22
[8]
NMOS晶体管及MOS晶体管的形成方法 [P]. 
鲍宇 .
中国专利 :CN103367155A ,2013-10-23
[9]
晶体管的形成方法 [P]. 
张海洋 ;
尚飞 .
中国专利 :CN104752226A ,2015-07-01
[10]
晶体管的形成方法 [P]. 
韩秋华 ;
李凤莲 .
中国专利 :CN103681282A ,2014-03-26