金属栅极晶体管的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201310231961.9
申请日
2013-06-09
公开(公告)号
CN104241129A
公开(公告)日
2014-12-24
发明(设计)人
刘焕新
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
金属栅极晶体管的形成方法 [P]. 
刘焕新 .
中国专利 :CN104241131A ,2014-12-24
[2]
NMOS金属栅极晶体管的形成方法 [P]. 
张海洋 ;
李凤莲 .
中国专利 :CN104347377B ,2015-02-11
[3]
金属栅极和MOS晶体管的形成方法 [P]. 
王新鹏 .
中国专利 :CN102856178A ,2013-01-02
[4]
金属栅极及MOS晶体管的形成方法 [P]. 
李凤莲 .
中国专利 :CN102479691A ,2012-05-30
[5]
金属栅极及MOS晶体管的形成方法 [P]. 
倪景华 .
中国专利 :CN102800577B ,2012-11-28
[6]
金属栅极和MOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN102956465A ,2013-03-06
[7]
一种金属栅极及MOS晶体管的形成方法 [P]. 
蒋莉 .
中国专利 :CN102479694B ,2012-05-30
[8]
一种金属栅极及MOS晶体管的形成方法 [P]. 
王庆玲 ;
陈枫 .
中国专利 :CN102683189B ,2012-09-19
[9]
一种金属栅极及MOS晶体管的形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN102683190A ,2012-09-19
[10]
一种金属栅极及MOS晶体管的形成方法 [P]. 
蒋莉 ;
黎铭琦 .
中国专利 :CN102487010A ,2012-06-06