曝光用防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置及曝光用防护膜的制造方法

被引：0

申请号：

CN202180027875.9

申请日：

2021-04-02

公开(公告)号：

CN115398334A

公开(公告)日：

2022-11-25

发明(设计)人：

小野阳介石川比佐子小川亮平大久保敦高村一夫关口贵子加藤雄一山田健郎周英

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F162

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

陈彦;李宏轩

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-11-25	公开	公开
2022-12-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/62 申请日:20210402

共 50 条

[1]

防护膜、防护膜组件、曝光原版以及曝光装置 [P].

矢野浩平 ;

高桥典雅 .

日本专利 :CN120359465A ,2025-07-22

[2]

防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜的制造方法 [P].

小野阳介 .

日本专利 :CN117377909B ,2024-08-13

[3]

防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜的制造方法 [P].

小野阳介 .

日本专利 :CN117377909A ,2024-01-09

[4]

防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜的制造方法 [P].

小野阳介 .

日本专利 :CN118707801A ,2024-09-27

[5]

防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法 [P].

畦崎崇 ;

春田佳一郎 ;

佐藤靖 ;

伊藤健 ;

小野阳介 ;

藤村真史 ;

石川比佐子 .

日本专利 :CN118020023A ,2024-05-10

[6]

防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法 [P].

田中博文 ;

小野阳介 ;

石川彰 ;

佐藤靖 ;

石川比佐子 ;

藤村真史 ;

大久保敦 ;

高村一夫 .

日本专利 :CN117916662A ,2024-04-19

[7]

防护膜组件框、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法 [P].

石川彰 ;

藤村真史 ;

大久保敦 ;

高村一夫 ;

田中博文 .

日本专利 :CN118974649A ,2024-11-15

[8]

防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置、防护膜组件的制造方法及半导体装置的制造方法 [P].

大久保敦 ;

高村一夫 ;

石川比佐子 ;

小野阳介 ;

藤井泰久 ;

吉川弥 ;

松本信子 ;

出口朋枝 .

中国专利 :CN115004108A ,2022-09-02

[9]

纳米管防护膜、防护膜组件、曝光原版及曝光装置 [P].

藤村真史 ;

石川比佐子 ;

小野阳介 ;

大久保敦 ;

百濑悠 .

日本专利 :CN120584321A ,2025-09-02

[10]

防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置及半导体装置的制造方法 [P].

小野阳介 ;

高村一夫 .

中国专利 :CN106462052A ,2017-02-22

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