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硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201911326113.X
申请日
:
2019-12-20
公开(公告)号
:
CN111352300A
公开(公告)日
:
2020-06-30
发明(设计)人
:
林栽范
金瑆焕
金昇炫
金兑镐
朴裕信
梁善暎
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
IPC主分类号
:
G03F7004
IPC分类号
:
G03F709
G03F700
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
杨文娟;臧建明
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-07-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20191220
2020-06-30
公开
公开
共 50 条
[1]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
郑主泳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
郑主泳
;
南沇希
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
南沇希
;
郑瑟基
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
郑瑟基
.
韩国专利
:CN118672059A
,2024-09-20
[2]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
崔世一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
崔世一
.
韩国专利
:CN118915385A
,2024-11-08
[3]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
金瑆焕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金瑆焕
.
韩国专利
:CN118818902A
,2024-10-22
[4]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
崔熙瑄
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
崔熙瑄
;
金瑆焕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金瑆焕
.
韩国专利
:CN118502198A
,2024-08-16
[5]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
崔世一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
崔世一
.
中国专利
:CN118732399A
,2024-10-01
[6]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
金尙美
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金尙美
;
金瑆焕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金瑆焕
.
韩国专利
:CN118363271A
,2024-07-19
[7]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
崔世一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
崔世一
.
韩国专利
:CN118915386A
,2024-11-08
[8]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
南沇希
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
南沇希
;
朴裕信
论文数:
0
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0
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
朴裕信
;
金昇炫
论文数:
0
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
金昇炫
;
郑瑟基
论文数:
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0
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0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
郑瑟基
;
朴相喆
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
朴相喆
;
苏旻至
论文数:
0
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0
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机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
苏旻至
;
郑主泳
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
郑主泳
.
韩国专利
:CN119310795A
,2025-01-14
[9]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
金昇炫
论文数:
0
引用数:
0
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0
金昇炫
;
郑铉日
论文数:
0
引用数:
0
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0
郑铉日
;
金尙美
论文数:
0
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金尙美
;
金铃根
论文数:
0
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金铃根
;
朴相喆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
朴相喆
.
中国专利
:CN112731766A
,2021-04-30
[10]
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法
[P].
蔡闰珠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
蔡闰珠
.
韩国专利
:CN118625601A
,2024-09-10
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