微光刻投影光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310014400.3

申请日：

2006-09-12

公开(公告)号：

CN103076723A

公开(公告)日：

2013-05-01

发明(设计)人：

H-J.曼恩 W.乌尔里希 M.普莱托里尔斯

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B1706 G02B2700

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-06-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101465119665 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013100144003 申请日:20060912
2013-05-01	公开	公开
2017-04-19	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101750179960 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013100144003 申请公布日:20130501

共 50 条

[1]

微光刻投影光学系统、工具及其制造方法 [P].

H－J·曼 ;

W·乌尔里希 .

中国专利 :CN101416117A ,2009-04-22

[2]

投影光学系统 [P].

吴昇澈 ;

周昱宏 ;

黄威豪 .

中国专利 :CN114253054A ,2022-03-29

[3]

投影光学系统 [P].

吴昇澈 ;

周昱宏 ;

黄威豪 .

中国专利 :CN114253054B ,2025-02-07

[4]

微光刻的光学系统 [P].

J.格罗斯曼 .

中国专利 :CN110914763A ,2020-03-24

[5]

微光刻投影曝光设备的光学系统 [P].

A·多多克 ;

A·埃尔曼 ;

S·布莱迪施特尔 .

中国专利 :CN101180581A ,2008-05-14

[6]

微光刻投影光学系统、用于制造装置的方法以及设计光学表面的方法 [P].

H-J·曼恩 ;

W·乌尔里希 ;

M·普莱托里尔斯 .

中国专利 :CN101263430B ,2008-09-10

[7]

微光刻成像光学系统 [P].

O.罗家尔斯基 ;

S.施耐德 ;

B.比特纳 ;

J.库格勒 ;

B.格尔里奇 ;

R.弗雷曼 .

中国专利 :CN103140803A ,2013-06-05

[8]

投影光学系统 [P].

孟祥月 ;

陈威望 ;

宋立通 ;

励维芳 ;

贺凌波 ;

戴付建 .

中国专利 :CN121209064A ,2025-12-26

[9]

投影光学系统 [P].

杨威 ;

全丽伟 ;

李源财 ;

章丽娟 ;

姜永旭 ;

饶钦和 .

中国专利 :CN120669392A ,2025-09-19

[10]

投影光学系统 [P].

郑竹明 .

中国专利 :CN100371767C ,2005-04-20

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