微光刻成像光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180047784.8

申请日：

2011-09-22

公开(公告)号：

CN103140803A

公开(公告)日：

2013-06-05

发明(设计)人：

O.罗家尔斯基 S.施耐德 B.比特纳 J.库格勒 B.格尔里奇 R.弗雷曼

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B2700

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-11-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101535154664 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011800477848 申请日:20110922
2013-06-05	公开	公开
2016-03-16	授权	授权

共 50 条

[1]

微光刻的光学系统 [P].

J.格罗斯曼 .

中国专利 :CN110914763A ,2020-03-24

[2]

成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 .

中国专利 :CN101836164A ,2010-09-15

[3]

微光刻投影光学系统 [P].

H-J.曼恩 ;

W.乌尔里希 ;

M.普莱托里尔斯 .

中国专利 :CN103076723A ,2013-05-01

[4]

成像光学系统 [P].

H-J.曼恩 .

中国专利 :CN103109225A ,2013-05-15

[5]

成像光学系统 [P].

幡手公英 ;

坂上典久 .

中国专利 :CN100410714C ,2006-03-29

[6]

成像光学系统 [P].

H-J.曼恩 .

中国专利 :CN106873135A ,2017-06-20

[7]

成像光学系统以及具有该类型成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 [P].

H-J.曼 ;

A.埃普尔 .

中国专利 :CN103038690A ,2013-04-10

[8]

成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 [P].

H-J.曼 ;

D.谢弗 .

中国专利 :CN102870030A ,2013-01-09

[9]

成像光学系统和具有此类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根.曼 ;

戴维.莎弗 .

中国专利 :CN102317867A ,2012-01-11

[10]

成像光学系统和具有此类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根.曼 ;

威廉.乌尔里克 ;

埃里克.洛普斯特拉 ;

戴维.莎弗 .

中国专利 :CN102317866A ,2012-01-11

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