成像光学系统和具有此类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080007424.0

申请日：

2010-02-02

公开(公告)号：

CN102317866A

公开(公告)日：

2012-01-11

发明(设计)人：

汉斯-于尔根.曼威廉.乌尔里克埃里克.洛普斯特拉戴维.莎弗

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B1706

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-08-19	授权	授权
2012-01-11	公开	公开
2012-03-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101194114213 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010800074240 申请日:20100202

共 50 条

[1]

成像光学系统和具有此类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根.曼 ;

戴维.莎弗 .

中国专利 :CN102317867A ,2012-01-11

[2]

成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 .

中国专利 :CN101836164A ,2010-09-15

[3]

成像光学系统以及具有该类型成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 [P].

H-J.曼 ;

A.埃普尔 .

中国专利 :CN103038690A ,2013-04-10

[4]

成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 [P].

H-J.曼 ;

D.谢弗 .

中国专利 :CN102870030A ,2013-01-09

[5]

成像光学系统和投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 ;

威廉·乌尔里克 ;

斯蒂芬·马伦德 ;

哈特穆特·恩基希 .

中国专利 :CN101836165B ,2010-09-15

[6]

成像光学系统和投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根.曼 ;

威廉.乌尔里克 ;

斯蒂芬.马伦德 ;

哈特穆特.恩基希 .

中国专利 :CN102749810A ,2012-10-24

[7]

成像光学系统和投射曝光设备 [P].

A.埃普尔 ;

R.米勒 ;

H-J.罗斯塔尔斯基 .

中国专利 :CN104380169A ,2015-02-25

[8]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.萨恩杰 ;

F.施勒塞纳 .

中国专利 :CN104246616B ,2014-12-24

[9]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

M.莫尔 .

中国专利 :CN104854510B ,2015-08-19

[10]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.西恩格 ;

O.迪特曼 ;

J.齐默曼 .

中国专利 :CN102939566B ,2013-02-20

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