微光刻投射曝光设备的光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380065563.2

申请日：

2013-12-03

公开(公告)号：

CN104854510B

公开(公告)日：

2015-08-19

发明(设计)人：

M.莫尔

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B1706 G02B2728

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

曲莹

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-08-19	公开	公开
2016-01-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101641878527 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013800655632 申请日:20131203
2017-07-18	授权	授权

共 50 条

[1]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.萨恩杰 ;

F.施勒塞纳 .

中国专利 :CN104246616B ,2014-12-24

[2]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.西恩格 ;

O.迪特曼 ;

J.齐默曼 .

中国专利 :CN102939566B ,2013-02-20

[3]

微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法 [P].

马库斯·门格尔 .

中国专利 :CN101952779A ,2011-01-19

[4]

光学系统、特别是微光刻投射曝光设备中的光学系统 [P].

A.霍夫 ;

D.纽格鲍尔 ;

R.弗赖曼 .

中国专利 :CN102648402B ,2012-08-22

[5]

一种微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN107810445B ,2018-03-16

[6]

微光刻投影曝光设备的光学系统 [P].

A·多多克 ;

A·埃尔曼 ;

S·布莱迪施特尔 .

中国专利 :CN101180581A ,2008-05-14

[7]

成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 .

中国专利 :CN101836164A ,2010-09-15

[8]

光学系统、具体而言微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜 [P].

尼尔斯·迪克曼 ;

达米安·菲奥尔卡 .

中国专利 :CN101568884A ,2009-10-28

[9]

投射曝光设备的光学系统 [P].

M.帕特拉 .

德国专利 :CN111427239B ,2024-09-17

[10]

成像光学系统以及具有该类型成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 [P].

H-J.曼 ;

A.埃普尔 .

中国专利 :CN103038690A ,2013-04-10

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