光学系统、特别是微光刻投射曝光设备中的光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080053976.5

申请日：

2010-09-08

公开(公告)号：

CN102648402B

公开(公告)日：

2012-08-22

发明(设计)人：

A.霍夫 D.纽格鲍尔 R.弗赖曼

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G01M1100

IPC分类号：

G03F720 G01B902

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-08-22	公开	公开
2012-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101333910566 IPC(主分类):G01M 11/00 专利申请号:2010800539765 申请日:20100908
2015-11-25	授权	授权

共 50 条

[1]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.萨恩杰 ;

F.施勒塞纳 .

中国专利 :CN104246616B ,2014-12-24

[2]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

M.莫尔 .

中国专利 :CN104854510B ,2015-08-19

[3]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.西恩格 ;

O.迪特曼 ;

J.齐默曼 .

中国专利 :CN102939566B ,2013-02-20

[4]

光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件 [P].

J.霍恩 ;

B.西格尔 ;

B.克瑙夫 ;

S.克朗 ;

J.施佩希特 ;

M.霍尔兹 ;

S.布莱迪斯特尔 ;

F.巴特 ;

M.索莱曼 .

中国专利 :CN107407891A ,2017-11-28

[5]

微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法 [P].

马库斯·门格尔 .

中国专利 :CN101952779A ,2011-01-19

[6]

微光刻投影曝光设备的光学系统 [P].

A·多多克 ;

A·埃尔曼 ;

S·布莱迪施特尔 .

中国专利 :CN101180581A ,2008-05-14

[7]

投射曝光设备的光学系统 [P].

M.帕特拉 .

德国专利 :CN111427239B ,2024-09-17

[8]

投射曝光设备的光学系统 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN111427239A ,2020-07-17

[9]

成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 .

中国专利 :CN101836164A ,2010-09-15

[10]

一种微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN107810445B ,2018-03-16

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