光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680018673.7

申请日：

2016-02-15

公开(公告)号：

CN107407891A

公开(公告)日：

2017-11-28

发明(设计)人：

J.霍恩 B.西格尔 B.克瑙夫 S.克朗 J.施佩希特 M.霍尔兹 S.布莱迪斯特尔 F.巴特 M.索莱曼

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-10	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F 7/20 申请公布日:20171128
2017-11-28	公开	公开
2018-03-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20160215

共 50 条

[1]

光学系统、特别是微光刻投射曝光设备中的光学系统 [P].

A.霍夫 ;

D.纽格鲍尔 ;

R.弗赖曼 .

中国专利 :CN102648402B ,2012-08-22

[2]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

M.莫尔 .

中国专利 :CN104854510B ,2015-08-19

[3]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.萨恩杰 ;

F.施勒塞纳 .

中国专利 :CN104246616B ,2014-12-24

[4]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.西恩格 ;

O.迪特曼 ;

J.齐默曼 .

中国专利 :CN102939566B ,2013-02-20

[5]

微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法 [P].

马库斯·门格尔 .

中国专利 :CN101952779A ,2011-01-19

[6]

一种微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN107810445B ,2018-03-16

[7]

微光刻投影曝光设备的光学系统 [P].

A·多多克 ;

A·埃尔曼 ;

S·布莱迪施特尔 .

中国专利 :CN101180581A ,2008-05-14

[8]

特别是在微光刻投射曝光设备中的组件 [P].

S.特勒格尔 ;

T.戈里乌斯 .

中国专利 :CN115516380A ,2022-12-23

[9]

光学部件组，特别是用于微光刻投射曝光设备的照明装置 [P].

M·帕特拉 .

德国专利 :CN117980825A ,2024-05-03

[10]

成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 .

中国专利 :CN101836164A ,2010-09-15

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