一种微光刻投射曝光设备的光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680029150.2

申请日：

2016-05-13

公开(公告)号：

CN107810445B

公开(公告)日：

2018-03-16

发明(设计)人：

M.帕特拉

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军;王蕊瑞

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-20	授权	授权
2018-03-16	公开	公开
2018-06-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20160513

共 50 条

[1]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

M.莫尔 .

中国专利 :CN104854510B ,2015-08-19

[2]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.萨恩杰 ;

F.施勒塞纳 .

中国专利 :CN104246616B ,2014-12-24

[3]

微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

I.西恩格 ;

O.迪特曼 ;

J.齐默曼 .

中国专利 :CN102939566B ,2013-02-20

[4]

微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法 [P].

马库斯·门格尔 .

中国专利 :CN101952779A ,2011-01-19

[5]

光学系统、特别是微光刻投射曝光设备中的光学系统 [P].

A.霍夫 ;

D.纽格鲍尔 ;

R.弗赖曼 .

中国专利 :CN102648402B ,2012-08-22

[6]

微光刻投影曝光设备的光学系统 [P].

A·多多克 ;

A·埃尔曼 ;

S·布莱迪施特尔 .

中国专利 :CN101180581A ,2008-05-14

[7]

光学系统、具体而言微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜 [P].

尼尔斯·迪克曼 ;

达米安·菲奥尔卡 .

中国专利 :CN101568884A ,2009-10-28

[8]

成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 .

中国专利 :CN101836164A ,2010-09-15

[9]

微光刻投射曝光设备 [P].

奥雷利安·多多克 ;

萨沙·布莱迪斯特尔 ;

奥拉夫·康拉迪 ;

阿里夫·卡齐 .

中国专利 :CN101821678B ,2010-09-01

[10]

投射曝光设备的光学系统 [P].

M.帕特拉 .

德国专利 :CN111427239B ,2024-09-17

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