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投射曝光设备的光学系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010016457.7
申请日：
2020-01-07
公开(公告)号：
CN111427239A
公开(公告)日：
2020-07-17
发明(设计)人：
M.帕特拉
申请人：
申请人地址：
德国上科亨
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G02B530
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
王蕊瑞
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-07-17 | 公开 | 公开 |
| 2022-01-11 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20200107 |