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光学系统和投射曝光设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380087199.3
申请日：
2023-11-22
公开(公告)号：
CN120322731A
公开(公告)日：
2025-07-15
发明(设计)人：
M·施温克
申请人：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址：
德国上科亨
IPC主分类号：
G03F7/00
IPC分类号：
G02B7/18
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
王蕊瑞
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-07-15 | 公开 | 公开 |