光学系统和投射曝光设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380087199.3

申请日：

2023-11-22

公开(公告)号：

CN120322731A

公开(公告)日：

2025-07-15

发明(设计)人：

M·施温克

申请人：

卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G02B7/18

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-15	公开	公开

共 50 条

[41]

成像光学系统和包括该成像光学系统的图像投射设备 [P].

市村纯也 .

中国专利 :CN107238912A ,2017-10-10

[42]

成像光学系统和包括该成像光学系统的图像投射设备 [P].

市村纯也 .

中国专利 :CN104849842B ,2015-08-19

[43]

微光刻投影曝光设备的光学系统 [P].

A·多多克 ;

A·埃尔曼 ;

S·布莱迪施特尔 .

中国专利 :CN101180581A ,2008-05-14

[44]

用于投射曝光系统的光学元件、包括该光学元件的光学系统以及包括该光学元件和/或该光学系统的投射曝光系统 [P].

S·A·毕西 ;

W·谢尔曼 ;

T·富泽尼格 ;

D·佩茨 ;

M·纳夫兹 ;

J·普罗克恩瑙 ;

J·库格勒 ;

M·费特泽尔 .

德国专利 :CN120019331A ,2025-05-16

[45]

照明光学系统、曝光设备、光学元件和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN102385258B ,2012-03-21

[46]

投射光学系统和投影仪 [P].

峯藤延孝 .

中国专利 :CN112147833B ,2020-12-29

[47]

投射光学系统和投影仪 [P].

柳泽博隆 .

中国专利 :CN113156747A ,2021-07-23

[48]

投射光学系统和投影仪 [P].

柳泽博隆 .

日本专利 :CN116466535B ,2025-09-09

[49]

投射光学系统和投影仪 [P].

峯藤延孝 .

中国专利 :CN112147832B ,2020-12-29

[50]

投射光学系统和投影仪 [P].

守国荣时 .

中国专利 :CN113176699A ,2021-07-27

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