光学系统和投射曝光设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380087199.3

申请日：

2023-11-22

公开(公告)号：

CN120322731A

公开(公告)日：

2025-07-15

发明(设计)人：

M·施温克

申请人：

卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G02B7/18

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-15	公开	公开

共 50 条

[21]

曝光设备的光学系统 [P].

张元 ;

郑泽新 ;

张才力 ;

张卜芳 ;

王宏强 ;

王潇 .

中国专利 :CN110262194A ,2019-09-20

[22]

成像光学系统和具有该类型的成像光学系统的微光刻投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根·曼 .

中国专利 :CN101836164A ,2010-09-15

[23]

投射光学系统单元、投射光学系统以及投射光学装置 [P].

高野洋平 ;

中山裕俊 .

中国专利 :CN110286549B ,2019-09-27

[24]

成像光学系统、投射曝光设备、制造组件的方法和组件 [P].

汉斯-于尔根.曼 ;

威廉.乌尔里克 ;

埃里克.洛普斯特拉 ;

戴维.莎弗 .

中国专利 :CN104914561B ,2015-09-16

[25]

投射光学系统 [P].

黄林 ;

陈程 .

中国专利 :CN108107654B ,2024-01-09

[26]

投射光学系统 [P].

黄林 ;

陈程 .

中国专利 :CN208013650U ,2018-10-26

[27]

成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备 [P].

H-J.曼 ;

D.谢弗 .

中国专利 :CN102870030A ,2013-01-09

[28]

投射光学系统 [P].

黄林 ;

陈程 .

中国专利 :CN108107654A ,2018-06-01

[29]

一种微光刻投射曝光设备的光学系统 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN107810445B ,2018-03-16

[30]

棱镜光学系统、照明光学系统、曝光设备和装置制造方法 [P].

大阪昇 ;

福冈亮介 ;

吉冈均 .

中国专利 :CN104122757A ,2014-10-29

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