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投射光学系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810140335.1
申请日
:
2018-02-11
公开(公告)号
:
CN108107654A
公开(公告)日
:
2018-06-01
发明(设计)人
:
黄林
陈程
申请人
:
申请人地址
:
315400 浙江省宁波市余姚市舜宇路66-68号
IPC主分类号
:
G03B2114
IPC分类号
:
G02B1300
代理机构
:
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204
代理人
:
王达佐;王艳春
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-06-01
公开
公开
2018-06-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03B 21/14 申请日:20180211
共 50 条
[1]
投射光学系统
[P].
黄林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
浙江舜宇光学有限公司
浙江舜宇光学有限公司
黄林
;
陈程
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
浙江舜宇光学有限公司
浙江舜宇光学有限公司
陈程
.
中国专利
:CN108107654B
,2024-01-09
[2]
投射光学系统
[P].
黄林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
黄林
;
陈程
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈程
.
中国专利
:CN208013650U
,2018-10-26
[3]
投射光学系统单元、投射光学系统以及投射光学装置
[P].
高野洋平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高野洋平
;
中山裕俊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
中山裕俊
.
中国专利
:CN110286549B
,2019-09-27
[4]
投射光学系统及使用该投射光学系统的投射型显示装置
[P].
山本力
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山本力
.
中国专利
:CN201837783U
,2011-05-18
[5]
投射光学系统以及图像投射装置
[P].
内田恒夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
内田恒夫
;
山田克
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山田克
.
中国专利
:CN108027498A
,2018-05-11
[6]
投射光学系统及使用该投射光学系统的投射型显示装置
[P].
永利由纪子
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
永利由纪子
.
中国专利
:CN201749248U
,2011-02-16
[7]
投射光学单元、光学系统以及投射曝光设备
[P].
M.施瓦布
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.施瓦布
.
中国专利
:CN111708256A
,2020-09-25
[8]
投射光学单元、光学系统以及投射曝光设备
[P].
M.施瓦布
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
M.施瓦布
.
德国专利
:CN111708256B
,2024-06-25
[9]
投射光学系统和投影仪
[P].
坂井俊彦
论文数:
0
引用数:
0
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0
坂井俊彦
;
盐川浩司
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
盐川浩司
.
中国专利
:CN109983384B
,2019-07-05
[10]
光学系统
[P].
研野孝吉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
研野孝吉
.
中国专利
:CN101573649A
,2009-11-04
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