投射光学系统以及图像投射装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780003123.2

申请日：

2017-03-08

公开(公告)号：

CN108027498A

公开(公告)日：

2018-05-11

发明(设计)人：

内田恒夫山田克

申请人：

申请人地址：

日本国大阪府

IPC主分类号：

G02B1708

IPC分类号：

G02B1316 G02B1318

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

齐秀凤

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 17/08 申请日:20170308
2020-10-30	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B 17/08 申请公布日:20180511
2018-05-11	公开	公开

共 50 条

[1]

投射光学系统单元、投射光学系统以及投射光学装置 [P].

高野洋平 ;

中山裕俊 .

中国专利 :CN110286549B ,2019-09-27

[2]

图像投射光学系统和图像投射装置 [P].

杉田茂宣 .

中国专利 :CN101276048A ,2008-10-01

[3]

投射光学系统以及雷达装置 [P].

村上公博 .

中国专利 :CN114258509A ,2022-03-29

[4]

投射光学系统以及雷达装置 [P].

村上公博 .

日本专利 :CN114258509B ,2024-02-09

[5]

投射光学系统以及投射型图像显示装置 [P].

峯藤延孝 .

中国专利 :CN110286478A ,2019-09-27

[6]

投射光学系统以及投射型图像显示装置 [P].

峯藤延孝 .

中国专利 :CN110286465B ,2019-09-27

[7]

投射光学系统以及投射型图像显示装置 [P].

盐川浩司 .

中国专利 :CN204215094U ,2015-03-18

[8]

光源装置、图像投射装置以及光源光学系统 [P].

高野洋平 ;

藤田和弘 ;

平川真 ;

今井重明 .

中国专利 :CN114563907A ,2022-05-31

[9]

光源装置、图像投射装置以及光源光学系统 [P].

高野洋平 ;

藤田和弘 ;

平川真 ;

今井重明 .

日本专利 :CN114563907B ,2025-04-04

[10]

光学系统、图像投射装置以及摄像装置 [P].

内田恒夫 ;

葛原聪 .

日本专利 :CN118435094A ,2024-08-02

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